도시바 SK하이닉스와 ‘나노 임프린트 리소그래피’(Nano Imprint Lithography, NIL) 공동 개발하기로 하는 최종 계약을 맺었다고 6일 발표했다.
양사 엔지니어들은 올 4월 일본 요코하마에 위치한 도시바 요코하마 공장(Yokohama Complex)에서 2017년 상용화를 목표로 기초 기술 개발에 착수할 예정이다. 이 날 발표는 양사가 지난해 12월 체결한 양해각서(MOU)에 기반한다.
도시바는 다수 장비 및 소재 기업과 NIL 개발에 협력하며 협력사의 기술과 도시바의 반도체 제조 공정을 통합해 왔다. 새로 발표된 SK하이닉스와의 공동 개발 프로그램은 상용화 과정에 속도를 붙이는 한편 도시바의 NIL 개발 투자 부담을 덜어줄 전망이다.
NIL은 미래 세대 메모리 장치로의 전환을 앞당기기 위한 후보 기술 중 하나다. 현재의 주류 공정 기술인 포토리소그래피는 반도체 웨이퍼 상의 감광 코팅에 레이저와 감광성 마스크를 사용해 회로를 형성한다. NIL은 웨이퍼 위에 패턴화된 탬플릿을 찍음으로써 회로 설계를 직접 새긴다. 이로써 보다 정밀한 설계가 가능해질 것으로 기대된다.
도시바는 메모리 사업을 강화하고 미래 세대 제품으로의 전환을 촉진하기 위해 앞으로도 NIL과 극자외선 리소그래피와 같은 차세대 리소그래피 기술 개발에 박차를 가할 예정이다.
도시바 코퍼레이션은 첨단 전자/전기 제품 및 시스템을 통해서 에너지 및 인프라, 커뮤니티 솔루션, 헬스케어 시스템 및 서비스, 전자기기 및 부품, 그리고 생활 제품 및 서비스 등 5개의 전략적 사업에 국제적인 능력을 펼치고 있는 포춘지 선정 500대 기업 중 하나이다. 도시바는 그룹의 기본 약속인 “인류에 헌신, 미래에 헌신”을 바탕으로 하여 “창조와 혁신을 통한 성장”을 향한 국제 경영을 장려하고 있으며 세계 모든 사람들이 안전하고 보장된 편안한 사회에 사는 세계를 이룩하는데 헌신하고 있다.
1875년 설립된 도시바는 현재 전 세계에 20여만명의 임직원을 보유하고 있는 590여개의 연결기업으로 구성된 글로벌 네트워크의 중심이며, 연간 매출은 6.5조엔(미화 630억 달러)을 상회하고 있다.
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도시바‘나노 임프린트 리소그래피’개발 박차
